Patrice Chartrand et Arthur Pelton
Article de revue (1999)
Un lien externe est disponible pour ce documentRenseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
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Département: | Département de génie physique |
Centre de recherche: | CRCT - Centre de recherche en calcul thermochimique |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/29046/ |
Titre de la revue: | Calphad-Computer Coupling of Phase Diagrams and Thermochemistry (vol. 23, no 2) |
Maison d'édition: | Elsevier |
DOI: | 10.1016/s0364-5916(99)00026-7 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1016/s0364-5916%2899%2900026-7 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:10 |
Citer en APA 7: | Chartrand, P., & Pelton, A. (1999). Modeling the Charge Compensation Effect in Silica-Rich Na₂O- K₂O-Al₂O₃-SiO₂ Melts. Calphad-Computer Coupling of Phase Diagrams and Thermochemistry, 23(2), 219-230. https://doi.org/10.1016/s0364-5916%2899%2900026-7 |
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