Michel Meunier, Xiaoguang Wu, Felix Beaudoin, Edward Sacher et Martine Simard-Normandin
Communication écrite (1999)
Un lien externe est disponible pour ce documentRenseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
---|---|
Département: | Département de génie physique |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/28742/ |
Nom de la conférence: | 4th Conference on Laser Applications in Microelectronic and Optoelectronic Manufacturing (LAMOM 1999) |
Lieu de la conférence: | San Jose, CA, USA |
Date(s) de la conférence: | 1999-01-25 |
Maison d'édition: | SPIE - International Society for Optical Engineering |
DOI: | 10.1117/12.352691 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1117/12.352691 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:17 |
Citer en APA 7: | Meunier, M., Wu, X., Beaudoin, F., Sacher, E., & Simard-Normandin, M. (janvier 1999). Excimer laser cleaning for microelectronics : Modeling, applications and challenges [Communication écrite]. 4th Conference on Laser Applications in Microelectronic and Optoelectronic Manufacturing (LAMOM 1999), San Jose, CA, USA. https://doi.org/10.1117/12.352691 |
---|---|
Statistiques
Dimensions