Michel Meunier
, Xiaoguang Wu, Felix Beaudoin, Edward Sacher et Martine Simard-Normandin
Communication écrite (1999)
Un lien externe est disponible pour ce document
| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/28742/ |
| Nom de la conférence: | 4th Conference on Laser Applications in Microelectronic and Optoelectronic Manufacturing (LAMOM 1999) |
| Lieu de la conférence: | San Jose, CA, USA |
| Date(s) de la conférence: | 1999-01-25 |
| Maison d'édition: | SPIE - International Society for Optical Engineering |
| DOI: | 10.1117/12.352691 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1117/12.352691 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
| Dernière modification: | 08 avr. 2025 02:18 |
| Citer en APA 7: | Meunier, M., Wu, X., Beaudoin, F., Sacher, E., & Simard-Normandin, M. (janvier 1999). Excimer laser cleaning for microelectronics : Modeling, applications and challenges [Communication écrite]. 4th Conference on Laser Applications in Microelectronic and Optoelectronic Manufacturing (LAMOM 1999), San Jose, CA, USA. https://doi.org/10.1117/12.352691 |
|---|---|
Statistiques
Dimensions
Actions réservées au personnel
|
Afficher document |
