Bistable Microelectrothermal Actuator in a Standard Complementary Metal-Oxide-Semiconductor Process

I. C. Ressejac, L. M. Landsberger, John F. Currie

Article de revue (2000)

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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
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Titre de la revue :
Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films ( vol. 18 , no 2 )
Maison d'édition:
American Vacuum Society
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:27886
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:04
Citer en APA 7:
Ressejac, I. C., Landsberger, L. M., & Currie, J. F. (2000). Bistable Microelectrothermal Actuator in a Standard Complementary Metal-Oxide-Semiconductor Process. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 18(2), 746-749. https://doi.org/10.1116/1.582171

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