Bistable Microelectrothermal Actuator in a Standard Complementary Metal-Oxide-Semiconductor Process

I. C. Ressejac, L. M. Landsberger et John F. Currie

Article de revue (2000)

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Renseignements supplémentaires:	Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/27886/
Titre de la revue:	Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 18, no 2)
Maison d'édition:	American Vacuum Society
DOI:	10.1116/1.582171
URL officielle:	https://doi.org/10.1116/1.582171
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:15

Citer en APA 7:	Ressejac, I. C., Landsberger, L. M., & Currie, J. F. (2000). Bistable Microelectrothermal Actuator in a Standard Complementary Metal-Oxide-Semiconductor Process. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 18(2), 746-749. https://doi.org/10.1116/1.582171
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