I. C. Ressejac, L. M. Landsberger et John F. Currie
Article de revue (2000)
Un lien externe est disponible pour ce document
| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/27886/ |
| Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 18, no 2) |
| Maison d'édition: | American Vacuum Society |
| DOI: | 10.1116/1.582171 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.582171 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:08 |
| Citer en APA 7: | Ressejac, I. C., Landsberger, L. M., & Currie, J. F. (2000). Bistable Microelectrothermal Actuator in a Standard Complementary Metal-Oxide-Semiconductor Process. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 18(2), 746-749. https://doi.org/10.1116/1.582171 |
|---|---|
Statistiques
Dimensions
Actions réservées au personnel
|
Afficher document |
