The Modeling of Excimer Laser Particle Removal From Hydrophilic Silicon Surfaces

X. Wu, Edward Sacher, Michel Meunier

Article de revue (2000)

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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
Journal of Applied Physics ( vol. 87 , no 8 )
Maison d'édition:
American Institute of Physics
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:27744
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:03
Citer en APA 7:
Wu, X., Sacher, E., & Meunier, M. (2000). The Modeling of Excimer Laser Particle Removal From Hydrophilic Silicon Surfaces. Journal of Applied Physics, 87(8), 3618-3627. https://doi.org/10.1063/1.372391

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