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The Modeling of Excimer Laser Particle Removal From Hydrophilic Silicon Surfaces

X. Wu, Edward Sacher et Michel Meunier

Article de revue (2000)

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Renseignements supplémentaires: Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département: Département de génie physique
Centre de recherche: GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/27744/
Titre de la revue: Journal of Applied Physics (vol. 87, no 8)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.372391
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.372391
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:22
Dernière modification: 05 janv. 2024 17:19
Citer en APA 7: Wu, X., Sacher, E., & Meunier, M. (2000). The Modeling of Excimer Laser Particle Removal From Hydrophilic Silicon Surfaces. Journal of Applied Physics, 87(8), 3618-3627. https://doi.org/10.1063/1.372391

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