X. Wu, Edward Sacher et Michel Meunier
Article de revue (2000)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/27744/ |
| Titre de la revue: | Journal of Applied Physics (vol. 87, no 8) |
| Maison d'édition: | American Institute of Physics |
| DOI: | 10.1063/1.372391 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.372391 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:08 |
| Citer en APA 7: | Wu, X., Sacher, E., & Meunier, M. (2000). The Modeling of Excimer Laser Particle Removal From Hydrophilic Silicon Surfaces. Journal of Applied Physics, 87(8), 3618-3627. https://doi.org/10.1063/1.372391 |
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