Studies of the Earliest Stages of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Sio2 on Polymeric Substrates

G. Dennler, A. Houdayer, M. Latreche, Y. Segui et Michael R. Wertheimer

Article de revue (2001)

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Renseignements supplémentaires:	Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/27461/
Titre de la revue:	Thin Solid Films (vol. 382, no 1-2)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/s0040-6090(00)01781-8
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2800%2901781-8
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:21
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:15

Citer en APA 7:	Dennler, G., Houdayer, A., Latreche, M., Segui, Y., & Wertheimer, M. R. (2001). Studies of the Earliest Stages of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Sio2 on Polymeric Substrates. Thin Solid Films, 382(1-2), 1-3. https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2800%2901781-8
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