G. Dennler, A. Houdayer, M. Latrèche, Y. Ségui, Michael R. Wertheimer
Article de revue (2001)
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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue
:
Thin Solid Films
(
vol.
382
,
no
1-2
)
Maison d'édition:
Elsevier
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:27461
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:21
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:03
Citer en APA 7:
Dennler, G., Houdayer, A., Latrèche, M., Ségui, Y., & Wertheimer, M. R. (2001). Studies of the Earliest Stages of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Sio2 on Polymeric Substrates. Thin Solid Films, 382(1-2), 1-3. https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2800%2901781-8
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