G. Dennler, A. Houdayer, M. Latrèche, Y. Segui et Michael R. Wertheimer
Article de revue (2001)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/27461/ |
| Titre de la revue: | Thin Solid Films (vol. 382, no 1-2) |
| Maison d'édition: | Elsevier |
| DOI: | 10.1016/s0040-6090(00)01781-8 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2800%2901781-8 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:21 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:08 |
| Citer en APA 7: | Dennler, G., Houdayer, A., Latrèche, M., Segui, Y., & Wertheimer, M. R. (2001). Studies of the Earliest Stages of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Sio2 on Polymeric Substrates. Thin Solid Films, 382(1-2), 1-3. https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2800%2901781-8 |
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