Model of Charge Migration During Thermal Poling in Silica Glasses: Evidence of a Voltage Threshold for the Onset of a Second-Order Nonlinearity

Yves Quiquempois, Nicolas Godbout, Suzanne Lacroix

Article de revue (2002)

Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
Physical Review A ( vol. 65 , no 4 )
Maison d'édition:
American Physical Society
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:26343
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:21
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:01
Citer en APA 7:
Quiquempois, Y., Godbout, N., & Lacroix, S. (2002). Model of Charge Migration During Thermal Poling in Silica Glasses: Evidence of a Voltage Threshold for the Onset of a Second-Order Nonlinearity. Physical Review A, 65(4), 043816-043816. https://doi.org/10.1103/physreva.65.043816

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document
Afficher document