A. M. Wróbel, A. Walkiewicz-Pietrzykowska, Jolanta-Ewa Sapieha
, Y. Nakanishi, Toru Aoki, Yoshinori Hatanaka
Article de revue (2003)
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Titre de la revue
:
Chemistry of Materials
(
vol.
15
,
no
8
)
Maison d'édition:
American Chemical Society (ACS)
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URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:25409
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:20
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:00
Citer en APA 7:
Wróbel, A. M., Walkiewicz-Pietrzykowska, A., Sapieha, J.-E., Nakanishi, Y., Aoki, T., & Hatanaka, Y. (2003). Remote Hydrogen Plasma Chemical Vapor Deposition From (Dimethylsilyl)(Trimethylsilyl)Methane. 1. Kinetics of the Process; Chemical and Morphological Structure of Deposited Silicon-Carbon Films. Chemistry of Materials, 15(8), 1749-1756. https://doi.org/10.1021/cm021250c
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