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Pecvd of Nanocrystalline Si Layers on High-Tg Polymer Substrates

L. A. Macqueen, J. Zikovsky, G. Dennler, M. Latreche, G. Czeremuszkin et Michael R. Wertheimer

Article de revue (2006)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/22800/
Titre de la revue: Plasma Processes and Polymers (vol. 3, no 1)
Maison d'édition: Wiley
DOI: 10.1002/ppap.200500145
URL officielle: https://doi.org/10.1002/ppap.200500145
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:17
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:07
Citer en APA 7: Macqueen, L. A., Zikovsky, J., Dennler, G., Latreche, M., Czeremuszkin, G., & Wertheimer, M. R. (2006). Pecvd of Nanocrystalline Si Layers on High-Tg Polymer Substrates. Plasma Processes and Polymers, 3(1), 58-65. https://doi.org/10.1002/ppap.200500145

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