Kazem Zandi, Ying Zhao, Juan Schneider, Yves-Alain Peter
Communication écrite (2010)
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Département:
ISBN:
9781424457649
Adresse URL de PolyPublie:
Nom de la conférence:
23rd IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (MEMS 2010)
Lieu de la conférence:
Hong Kong
Date(s) de la conférence:
2010-01-24 - 2010-01-28
Maison d'édition:
Institute of Electrical and Electronics Engineers
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:17412
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:14
Dernière modification:
14 oct. 2026 11:19
Citer en APA 7:
Zandi, K., Zhao, Y., Schneider, J., & Peter, Y.-A. (janvier 2010). New photoresist coating method for high topography surfaces [Communication écrite]. 23rd IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (MEMS 2010), Hong Kong. https://doi.org/10.1109/memsys.2010.5442482
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