Kazem Zandi, Ying Zhao, Juan Schneider et Yves-Alain Peter
Communication écrite (2010)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/17412/ |
| Nom de la conférence: | 23rd IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (MEMS 2010) |
| Lieu de la conférence: | Hong Kong |
| Date(s) de la conférence: | 2010-01-24 - 2010-01-28 |
| Maison d'édition: | Institute of Electrical and Electronics Engineers |
| DOI: | 10.1109/memsys.2010.5442482 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1109/memsys.2010.5442482 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:14 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 10:59 |
| Citer en APA 7: | Zandi, K., Zhao, Y., Schneider, J., & Peter, Y.-A. (janvier 2010). New photoresist coating method for high topography surfaces [Communication écrite]. 23rd IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (MEMS 2010), Hong Kong. https://doi.org/10.1109/memsys.2010.5442482 |
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