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New photoresist coating method for high topography surfaces

Kazem Zandi, Ying Zhao, Juan Schneider et Yves-Alain Peter

Communication écrite (2010)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/17412/
Nom de la conférence: 23rd IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (MEMS 2010)
Lieu de la conférence: Hong Kong
Date(s) de la conférence: 2010-01-24 - 2010-01-28
Maison d'édition: Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI: 10.1109/memsys.2010.5442482
URL officielle: https://doi.org/10.1109/memsys.2010.5442482
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:14
Dernière modification: 25 sept. 2024 15:55
Citer en APA 7: Zandi, K., Zhao, Y., Schneider, J., & Peter, Y.-A. (janvier 2010). New photoresist coating method for high topography surfaces [Communication écrite]. 23rd IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (MEMS 2010), Hong Kong. https://doi.org/10.1109/memsys.2010.5442482

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