<  Retour au portail Polytechnique Montréal

TGA and kinetic modelling of Co, Mn and Cu oxides for chemical looping gasification (CLG)

M. Aghabararnejad, Gregory Scott Patience et Jamal Chaouki

Article de revue (2014)

Un lien externe est disponible pour ce document
Département: Département de génie chimique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/12871/
Titre de la revue: Canadian Journal of Chemical Engineering (vol. 92, no 11)
Maison d'édition: Wiley
DOI: 10.1002/cjce.22046
URL officielle: https://doi.org/10.1002/cjce.22046
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:07
Dernière modification: 05 avr. 2024 10:52
Citer en APA 7: Aghabararnejad, M., Patience, G. S., & Chaouki, J. (2014). TGA and kinetic modelling of Co, Mn and Cu oxides for chemical looping gasification (CLG). Canadian Journal of Chemical Engineering, 92(11), 1903-1910. https://doi.org/10.1002/cjce.22046

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document Afficher document