Documents dont l'auteur est "Kressmann, R."

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Kressmann, R., Amjadi, H., Sessler, G. M., Rats, D., Martinu, L., Sapieha, J.-E., & Wertheimer, M. R. (octobre 1998). Charge storage in PECVD silicon oxynitride layers [Communication écrite]. Annual Report Conference on Electrical Insulation and Dielectric Phenomena, Atlanta, GA, USA. Lien externe

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