Documents dont l'auteur est "Rostaing, J. C."

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Rostaing, J. C., Cros, Y., Gujrathi, S. C., & Poulain, S. (1987). Quantitative infrared characterization of plasma enhanced CVD silicon oxynitride films. Journal of Non-Crystalline Solids, 97-98, 1051-1054. Lien externe

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