The Surface Analysis of Plasma-Deposited Amorphous Silicon Nitride by Surface Tension Measurements and Photoacoustic Ir Spectroscopy

Alain Bordeleau, Lionel G. Bertrand, Guy Lamouche, Edward Sacher, Jolanta-Ewa Sapieha, Michael R. Wertheimer

Communication écrite (1987)

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ISBN:
9781003760498
Adresse URL de PolyPublie:
Nom de la conférence:
Chemically Modified Surfaces Symposium
Lieu de la conférence:
Fort Collins, CO, USA
Date(s) de la conférence:
1987-06-17 - 1987-06-19
Éditeurs ou éditrices:
Maison d'édition:
CRC Press
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:83560
ORCID
Lionel G. Bertrand (iD)0000-0003-2068-7519 (Non authentifié)
Guy Lamouche (iD)0000-0002-9831-8273 (Non authentifié)
Edward Sacher (iD)0000-0002-3427-4136 (Non authentifié)
Jolanta-Ewa Sapieha (iD)0000-0001-6051-1978 (Non authentifié)
Michael R. Wertheimer (iD)0000-0002-7718-1757 (Non authentifié)
Date du dépôt:
04 nov. 2026 15:46
Dernière modification:
04 nov. 2026 15:46
Citer en APA 7:
Bordeleau, A., Bertrand, L. G., Lamouche, G., Sacher, E., Sapieha, J.-E., & Wertheimer, M. R. (juin 1987). The Surface Analysis of Plasma-Deposited Amorphous Silicon Nitride by Surface Tension Measurements and Photoacoustic Ir Spectroscopy [Communication écrite]. Chemically Modified Surfaces Symposium, Fort Collins, CO, USA. https://doi.org/10.4324/9781003760498-22

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