Damage profile of ion-implanted GaAs by x-ray photoelectron spectroscopy

Z. H. Lu, A. Azelmad, Yves Trudeau, Arthur Yelon

Article de revue (1989)

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Titre de la revue :
Applied Physics Letters ( vol. 55 , no 9 )
Maison d'édition:
American Institute of Physics
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:70709
ORCID
Date du dépôt:
22 déc. 2025 15:08
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:31
Citer en APA 7:
Lu, Z. H., Azelmad, A., Trudeau, Y., & Yelon, A. (1989). Damage profile of ion-implanted GaAs by x-ray photoelectron spectroscopy. Applied Physics Letters, 55(9), 846-848. https://doi.org/10.1063/1.101774

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