Unbalanced magnetron deposition of composite metal/C:H films - a comparison of basic properties of Ag/C:H, Ni/C:H and Mo/C:H

H. Biederman, V. Stundzia, D. Slavínská, P. Bílková, J. Pešička, P. Hlídek, J. Zemek, Ludvik Martinu, Jolanta-Ewa Sapieha, S. C. Gujrathi

Communication écrite (1997)

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Numéro de subvention:
GACR 202/1995/1487
Adresse URL de PolyPublie:
Nom de la conférence:
13th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1997)
Lieu de la conférence:
Beijing, China
Date(s) de la conférence:
1997-08-18 - 1997-08-22
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:66759
ORCID
Date du dépôt:
24 juil. 2025 15:12
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:28
Citer en APA 7:
Biederman, H., Stundzia, V., Slavínská, D., Bílková, P., Pešička, J., Hlídek, P., Zemek, J., Martinu, L., Sapieha, J.-E., & Gujrathi, S. C. (août 1997). Unbalanced magnetron deposition of composite metal/C:H films - a comparison of basic properties of Ag/C:H, Ni/C:H and Mo/C:H [Communication écrite]. 13th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1997), Beijing, China. https://www.ispc-conference.org/ispcdocs/ispc13/content/13/13-1165.pdf

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