Krishna Chandra Mandal et Oumarou Savadogo
Article de revue (1991)
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| Département: | Département de génie chimique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/48006/ |
| Titre de la revue: | Japanese Journal of Applied Physics (vol. 30, no Part 1, No) |
| Maison d'édition: | IOP Publishing |
| DOI: | 10.1143/jjap.30.3484 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1143/jjap.30.3484 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:36 |
| Citer en APA 7: | Mandal, K. C., & Savadogo, O. (1991). A New Chemical Method of Preparing Semiconducting MoX2(X=S, Se) Thin Films. Japanese Journal of Applied Physics, 30(Part 1, No), 3484-3487. https://doi.org/10.1143/jjap.30.3484 |
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