A New Chemical Method of Preparing Semiconducting MoX2(X=S, Se) Thin Films

Krishna Chandra Mandal et Oumarou Savadogo

Article de revue (1991)

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Département:	Département de génie chimique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/48006/
Titre de la revue:	Japanese Journal of Applied Physics (vol. 30, no Part 1, No)
Maison d'édition:	IOP Publishing
DOI:	10.1143/jjap.30.3484
URL officielle:	https://doi.org/10.1143/jjap.30.3484
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:49

Citer en APA 7:	Mandal, K. C., & Savadogo, O. (1991). A New Chemical Method of Preparing Semiconducting MoX2(X=S, Se) Thin Films. Japanese Journal of Applied Physics, 30(Part 1, No), 3484-3487. https://doi.org/10.1143/jjap.30.3484
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