L. Paquin, D. Masson, Michael R. Wertheimer et M. Moisan
Article de revue (1985)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38199/ |
Titre de la revue: | Canadian Journal of Physics (vol. 63, no 6) |
Maison d'édition: | Canadian Science Publishing |
DOI: | 10.1139/p85-134 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1139/p85-134 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:22 |
Citer en APA 7: | Paquin, L., Masson, D., Wertheimer, M. R., & Moisan, M. (1985). Amorphous silicon for photovoltaics produced by new microwave plasma-deposition techniques. Canadian Journal of Physics, 63(6), 831-837. https://doi.org/10.1139/p85-134 |
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