Alexandre Favron, Étienne Gaufrès, Frédéric Fossard, Anne-Laurence Phaneuf-L'Heureux, Nathalie Y-W. Tang, Pierre L. Lévesque, Annick Loiseau, Richard Leonelli, Sébastien Francoeur
et Richard Martel
Article de revue (2015)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| Centre de recherche: | RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/35048/ |
| Titre de la revue: | Nature Materials (vol. 14, no 8) |
| Maison d'édition: | Nature Publishing Group |
| DOI: | 10.1038/nmat4299 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1038/nmat4299 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:06 |
| Dernière modification: | 13 mai 2024 15:06 |
| Citer en APA 7: | Favron, A., Gaufrès, É., Fossard, F., Phaneuf-L'Heureux, A.-L., Tang, N. Y.-W., Lévesque, P. L., Loiseau, A., Leonelli, R., Francoeur, S., & Martel, R. (2015). Photooxidation and quantum confinement effects in exfoliated black phosphorus. Nature Materials, 14(8), 826-832. https://doi.org/10.1038/nmat4299 |
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