A. Favron, E. Gaufres, F. Fossard, A. L. Phaneuf-L'Heureux, N. Y. W. Tang, P. L. Levesque, A. Loiseau, R. Leonelli, Sébastien Francoeur
et R. Martel
Article de revue (2015)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| Centre de recherche: | RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/35048/ |
| Titre de la revue: | Nature Materials (vol. 14, no 8) |
| Maison d'édition: | Nature Publishing Group |
| DOI: | 10.1038/nmat4299 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1038/nmat4299 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:06 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:27 |
| Citer en APA 7: | Favron, A., Gaufres, E., Fossard, F., Phaneuf-L'Heureux, A. L., Tang, N. Y. W., Levesque, P. L., Loiseau, A., Leonelli, R., Francoeur, S., & Martel, R. (2015). Photooxidation and quantum confinement effects in exfoliated black phosphorus. Nature Materials, 14(8), 826-832. https://doi.org/10.1038/nmat4299 |
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