B. Lamontagne, Edward Sacher et Michael R. Wertheimer
Article de revue (1994)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/33127/ |
Titre de la revue: | Applied Surface Science (vol. 78, no 4) |
Maison d'édition: | Elsevier |
DOI: | 10.1016/0169-4332(94)90064-7 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1016/0169-4332%2894%2990064-7 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:25 |
Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:24 |
Citer en APA 7: | Lamontagne, B., Sacher, E., & Wertheimer, M. R. (1994). The Au/Si(100) (1 × 1)-H interface, as studied by XPS and AFM: a model of the interfacial reaction. Applied Surface Science, 78(4), 399-411. https://doi.org/10.1016/0169-4332%2894%2990064-7 |
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