J. C. K. Ho et Dominique-Louis Piron
Article de revue (1995)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de métallurgie et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/32166/ |
| Titre de la revue: | Journal of The Electrochemical Society (vol. 142, no 4) |
| Maison d'édition: | The Electrochemical Society |
| DOI: | 10.1149/1.2044143 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1149/1.2044143 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:25 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:14 |
| Citer en APA 7: | Ho, J. C. K., & Piron, D.-L. (1995). Real active surface-area determination by adsorption/desorption of overpotential deposited hydrogen. Journal of The Electrochemical Society, 142(4), 1144-1149. https://doi.org/10.1149/1.2044143 |
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