Structural and optical charact. of InP grown on Si(111) by metalorganic vapor phase epitaxy using thermal cycle growth

Ababou, Yahya; Desjardins, Patrick; Chennouf, A.; Leonelli, R.; Hetherington, D.; Yelon, Arthur; L'Espérance, Gilles; Masut, Rémo A.; Ababou, Yahya; Desjardins, Patrick; Chennouf, A.; Leonelli, R.; Hetherington, D.; Yelon, Arthur; L'Espérance, Gilles; Masut, Rémo A.

Structural and optical charact. of InP grown on Si(111) by metalorganic vapor phase epitaxy using thermal cycle growth

Yahya Ababou, Patrick Desjardins , A. Chennouf, R. Leonelli, D. Hetherington, Arthur Yelon , Gilles L'Espérance , Rémo A. Masut

Article de revue (1996)

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Renseignements supplémentaires:

Nom historique du département: Département de métallurgie et de génie des matériaux

Département:

Département de génie physique

Unité de recherche:

(CM)² - Centre de caractérisation microscopique des matériaux
GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/31600/

Titre de la revue :

Journal of Applied Physics ( vol. 80 , no 9 )

Maison d'édition:

American Institute of Physics

DOI:

10.1063/1.363544

URL officielle:

https://doi.org/10.1063/1.363544

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:31600

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:24

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:18

Citer en APA 7:

Ababou, Y., Desjardins, P., Chennouf, A., Leonelli, R., Hetherington, D., Yelon, A., L'Espérance, G., & Masut, R. A. (1996). Structural and optical charact. of InP grown on Si(111) by metalorganic vapor phase epitaxy using thermal cycle growth. Journal of Applied Physics, 80(9), 499-505. https://doi.org/10.1063/1.363544

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