Pulsed laser deposition of NASICON thin films for the fabrication of ion selective membranes

Izquierdo, R.; Quenneville, E.; Trigylidas, D.; Girard, F.; Meunier, Michel; Ivanov, Dentcho; Paleologou, M.; Yelon, Arthur; Izquierdo, R.; Quenneville, E.; Trigylidas, D.; Girard, F.; Meunier, Michel; Ivanov, Dentcho; Paleologou, M.; Yelon, Arthur

Pulsed laser deposition of NASICON thin films for the fabrication of ion selective membranes

R. Izquierdo, E. Quenneville, D. Trigylidas, F. Girard, Michel Meunier , Dentcho Ivanov, M. Paleologou, Arthur Yelon

Article de revue (1997)

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Département:

Département de génie physique

Unité de recherche:

GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/30380/

Titre de la revue :

Journal of The Electrochemical Society ( vol. 144 , no 12 )

Maison d'édition:

The Electrochemical Society

DOI:

10.1149/1.1838147

URL officielle:

https://doi.org/10.1149/1.1838147

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:30380

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:23

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:16

Citer en APA 7:

Izquierdo, R., Quenneville, E., Trigylidas, D., Girard, F., Meunier, M., Ivanov, D., Paleologou, M., & Yelon, A. (1997). Pulsed laser deposition of NASICON thin films for the fabrication of ion selective membranes. Journal of The Electrochemical Society, 144(12), L323-L325. https://doi.org/10.1149/1.1838147

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