Pulsed laser deposition of NASICON thin films for the fabrication of ion selective membranes

R. Izquierdo, E. Quenneville, D. Trigylidas, F. Girard, Michel Meunier, Dentcho Ivanov, M. Paleologou et Arthur Yelon

Article de revue (1997)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/30380/
Titre de la revue:	Journal of The Electrochemical Society (vol. 144, no 12)
Maison d'édition:	The Electrochemical Society
DOI:	10.1149/1.1838147
URL officielle:	https://doi.org/10.1149/1.1838147
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:23
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:19

Citer en APA 7:	Izquierdo, R., Quenneville, E., Trigylidas, D., Girard, F., Meunier, M., Ivanov, D., Paleologou, M., & Yelon, A. (1997). Pulsed laser deposition of NASICON thin films for the fabrication of ion selective membranes. Journal of The Electrochemical Society, 144(12), L323-L325. https://doi.org/10.1149/1.1838147
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