X. Wu, Edward Sacher et Michel Meunier
Article de revue (1999)
Un lien externe est disponible pour ce documentRenseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
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Département: | Département de génie physique |
Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/28483/ |
Titre de la revue: | Journal of Applied Physics (vol. 86, no 3) |
Maison d'édition: | American Institute of Physics |
DOI: | 10.1063/1.370956 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.370956 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:09 |
Citer en APA 7: | Wu, X., Sacher, E., & Meunier, M. (1999). The Effects of Hydrogen Bonds on the Adhesion of Inorganic Oxide Particles on Hydrophilic Silicon Surfaces. Journal of Applied Physics, 86(3), 1744-1748. https://doi.org/10.1063/1.370956 |
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