Arthur Yelon, H. Fritzsche et H. M. Branz
Article de revue (2000)
Un lien externe est disponible pour ce documentRenseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
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Département: | Département de génie physique |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/27720/ |
Titre de la revue: | Journal of Non-Crystalline Solids (vol. 266) |
Maison d'édition: | Elsevier |
DOI: | 10.1016/s0022-3093(99)00772-3 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1016/s0022-3093%2899%2900772-3 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:08 |
Citer en APA 7: | Yelon, A., Fritzsche, H., & Branz, H. M. (2000). Electron Beam Creation of Metastable Defects in Hydrogenated Amorphous Silicon: Hydrogen Collision Model. Journal of Non-Crystalline Solids, 266, 437-443. https://doi.org/10.1016/s0022-3093%2899%2900772-3 |
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