A. M. Wróbel, A. Walkiewicz-Pietrzykowska, Dariusz M. Bieliński, Jolanta-Ewa Sapieha
, Y. Nakanishi, Toru Aoki et Yoshinori Hatanaka
Article de revue (2003)
Un lien externe est disponible pour ce document
| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/25410/ |
| Titre de la revue: | Chemistry of Materials (vol. 15, no 8) |
| Maison d'édition: | American Chemical Society (ACS) |
| DOI: | 10.1021/cm0212515 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1021/cm0212515 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:20 |
| Dernière modification: | 08 avr. 2025 02:14 |
| Citer en APA 7: | Wróbel, A. M., Walkiewicz-Pietrzykowska, A., Bieliński, D. M., Sapieha, J.-E., Nakanishi, Y., Aoki, T., & Hatanaka, Y. (2003). Remote Hydrogen Plasma Chemical Vapor Deposition From (Dimethylsilyl)(Trimethylsilyl)Methane. 2. Property-Structure Relationships for Resulting Silicon-Carbon Films. Chemistry of Materials, 15(8), 1757-1762. https://doi.org/10.1021/cm0212515 |
|---|---|
Statistiques
Dimensions
Actions réservées au personnel
|
Afficher document |
