Close space vapor transport method for Bi₂Te₃ thin films deposition: Influence of the type of substrate

O. Vigil-Galan, F. Cruz-Gandarilla, J. Sastre-Hernandez, Frédéric Roy, E. Sanchez-Meza, G. Contreras-Puente

Article de revue (2009)

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Département:
Département de génie physique
Adresse URL de PolyPublie:
https://publications.polymtl.ca/18829/
Titre de la revue :
Journal of Physics and Chemistry of Solids ( vol. 70 , no 2 )
Maison d'édition:
Elsevier
DOI:
10.1016/j.jpcs.2008.11.008
URL officielle:
https://doi.org/10.1016/j.jpcs.2008.11.008
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:18829
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:15
Dernière modification:
14 oct. 2026 11:22
Citer en APA 7:
Vigil-Galan, O., Cruz-Gandarilla, F., Sastre-Hernandez, J., Roy, F., Sanchez-Meza, E., & Contreras-Puente, G. (2009). Close space vapor transport method for Bi₂Te₃ thin films deposition: Influence of the type of substrate. Journal of Physics and Chemistry of Solids, 70(2), 365-370. https://doi.org/10.1016/j.jpcs.2008.11.008

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