Ali Shekari et Gregory Scott Patience
Article de revue (2013)
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| Département: | Département de génie chimique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/13113/ |
| Titre de la revue: | Canadian Journal of Chemical Engineering (vol. 91, no 2) |
| Maison d'édition: | Wiley |
| DOI: | 10.1002/cjce.21637 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1002/cjce.21637 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:10 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 10:52 |
| Citer en APA 7: | Shekari, A., & Patience, G. S. (2013). Transient kinetics of n-butane partial oxidation at elevated pressure. Canadian Journal of Chemical Engineering, 91(2), 291-301. https://doi.org/10.1002/cjce.21637 |
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