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Thermal transport through short-period SiGe nanodot superlattices

Peixuan Chen, J. J. Zhang, J. P. Feser, F. Pezzoli, Oussama Moutanabbir, S. Cecchi, G. Isella, T. Gemming, S. Baunack, G. Chen, O. G. Schmidt et A. Rastelli

Article de revue (2014)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/12574/
Titre de la revue: Journal of Applied Physics (vol. 115, no 4)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.4863115
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.4863115
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:08
Dernière modification: 05 avr. 2024 10:52
Citer en APA 7: Chen, P., Zhang, J. J., Feser, J. P., Pezzoli, F., Moutanabbir, O., Cecchi, S., Isella, G., Gemming, T., Baunack, S., Chen, G., Schmidt, O. G., & Rastelli, A. (2014). Thermal transport through short-period SiGe nanodot superlattices. Journal of Applied Physics, 115(4). https://doi.org/10.1063/1.4863115

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